发明名称 |
封闭型沟槽式功率金氧半场效电晶体结构及其制作方法 |
摘要 |
一种封闭型沟槽式金氧半场效电晶体结构,具有一第一导电型之汲极区、一第二导电型之本体、一沟槽式闸极与复数个具有第一导电型之源极区。本体系位于汲极区上。沟槽式闸极系位于本体内,并具有至少二长条部分与一交错部分,其中,长条部份之底部系位于汲极区内,交错部份之底部系位于本体内。源极区系位于本体内,并且至少邻接于沟槽式闸极之长条部份。 |
申请公布号 |
TWI420666 |
申请公布日期 |
2013.12.21 |
申请号 |
TW098136358 |
申请日期 |
2009.10.27 |
申请人 |
科轩微电子股份有限公司 新北市汐止区工建路366号6楼 |
发明人 |
许修文 |
分类号 |
H01L29/78;H01L21/336;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
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代理人 |
庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼 |
主权项 |
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地址 |
新北市汐止区工建路366号6楼 |