发明名称 封闭型沟槽式功率金氧半场效电晶体结构及其制作方法
摘要 一种封闭型沟槽式金氧半场效电晶体结构,具有一第一导电型之汲极区、一第二导电型之本体、一沟槽式闸极与复数个具有第一导电型之源极区。本体系位于汲极区上。沟槽式闸极系位于本体内,并具有至少二长条部分与一交错部分,其中,长条部份之底部系位于汲极区内,交错部份之底部系位于本体内。源极区系位于本体内,并且至少邻接于沟槽式闸极之长条部份。
申请公布号 TWI420666 申请公布日期 2013.12.21
申请号 TW098136358 申请日期 2009.10.27
申请人 科轩微电子股份有限公司 新北市汐止区工建路366号6楼 发明人 许修文
分类号 H01L29/78;H01L21/336;H01L21/28 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项
地址 新北市汐止区工建路366号6楼