| 发明名称 | 用于电子束图案化的方法 | ||
| 摘要 | 一种用于电子束图案化的方法，包括：在衬底上形成导电材料层；在导电材料层上形成底部抗反射涂覆(BARC)层；在BARC层上形成抗蚀剂层；以及将电子束(电子束)引导至感光抗蚀剂层以用于电子束图案化工艺。设计BARC层，使得在电子束图案化工艺期间抗蚀剂层的顶部电势基本为零。 | ||
| 申请公布号 | CN103454853A | 申请公布日期 | 2013.12.18 |
| 申请号 | CN201210451288.5 | 申请日期 | 2012.11.12 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 王文娟;林世杰;许照荣;林本坚 |
| 分类号 | G03F1/78(2012.01)I;G03F1/56(2012.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/78(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
| 主权项 | 一种用于电子束图案化的方法，所述方法包括：在衬底上形成导电材料层；在所述导电材料层上形成底部抗反射涂覆(BARC)层；在所述BARC层上形成抗蚀剂层；以及将电子束引导至所述抗蚀剂层用于电子束图案化工艺，其中，所述BARC层被设计为使得在所述电子束图案化工艺期间所述抗蚀剂层的顶部电势Φ基本为零。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||