发明名称 LOW VISCOSITY ETCHANT FOR METAL ELECTRODE
摘要 <p>본 발명은, 금속막 식각용액에 관한 것으로서, 조성물의 총 중량에 대해 5 내지 40중량%의 황산과; 조성물의 총 중량에 대해 0.5 내지 30중량%의 질산과; 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 10중량%의 할로겐 계열 첨가제와; 조성물의 총 중량에 대해 0.5 내지 20중량%의 유기산 또는 유기산에서 파생되는 염과 조성물의 총 중량에 대해 나머지 성분은 물을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 금속막 식각용액으로, 인듐산화막, 알루미늄, 알루미늄합금, 몰리브덴 및 몰리브덴합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상으로 마련되는 단일막 또는 다층막을 식각할 경우, 매우 양호한 식각특성을 제공할 수 있다. 더욱이, 액정표시장치용 어레이기판의 제조시 본 발명에 따른 금속막 식각용액을 사용하는 경우 식각속도의 조절이 가능하며, 양호한 프로파일을 얻을 수 있으며, 기판의 크기가 크거나 경사 장비에서도 식각균일성을 유지할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101342051(B1) 申请公布日期 2013.12.18
申请号 KR20120135391 申请日期 2012.11.27
申请人 发明人
分类号 C09K13/04;C23F1/16;C23F1/20 主分类号 C09K13/04
代理机构 代理人
主权项
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