一种使用湿法刻蚀法制备GaAs微透镜的方法

摘要

一种使用湿法刻蚀法制备GaAs微透镜的方法,属于半导体光电子器件工艺技术领域。由于传统垂直腔面发射激光器有光束质量差的缺点，我们针对于GaAs基垂直腔面发射激光器发明了利用湿法刻蚀制备微透镜的方法。用微透镜作为输出耦合透镜，使其构成复合腔结构，可以有效提高垂直腔面发射激光器的光束质量。本方法操作简单，原料基本无毒，可控性较好。

主权项

一种使用湿法刻蚀法制备GaAs微透镜的方法,其特征在于采用酸、高锰酸钾、去离子水配制成的腐蚀液对GaAs基材料进行刻蚀，来得到一定曲率半径的GaAs微透镜。