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发明名称
半导体晶圆加工用胶带
摘要
本发明提供藉由接着剂层吸收空气中的水分减低软化,而可以抑制收取(pick-up)错误的发生之黏接膜及半导体晶圆加工用胶带。本发明之黏接膜,系由基材膜及被设于该基材膜上的黏接剂层所构成的黏接膜,透湿度为10.0g/m2/day以下。此外,本发明之半导体晶圆加工用胶带,为具有:由基材膜及被设于该基材膜上的黏接剂层所构成的黏接膜,及被设于黏接剂层上的接着剂层的晶圆加工用胶带;黏接膜的透湿度为10.0g/m2/day以下。
申请公布号
TWI418604
申请公布日期
2013.12.11
申请号
TW099139513
申请日期
2010.11.17
申请人
古河电气工业股份有限公司 日本
发明人
青山真沙美;石渡伸一;盛岛泰正
分类号
C09J7/02
主分类号
C09J7/02
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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