发明名称 |
图案化的方法 |
摘要 |
一种图案化的方法。首先,在基底上形成材料层。然后,在材料层上形成灰化层。接着,在灰化层上形成图案化转移层,其中图案化转移层具有小于曝光极限尺寸的关键尺寸。之后,以图案化转移层或图案化转移层之补偿层为罩幕,来图案化灰化层,以形成图案化灰化层。继之,以图案化灰化层为罩幕,来图案化材料层。 |
申请公布号 |
TWI419201 |
申请公布日期 |
2013.12.11 |
申请号 |
TW098113885 |
申请日期 |
2009.04.27 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |
发明人 |
李鸿志 |
分类号 |
H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |