原位羟化系统

摘要

本文描述用于使用氨和水蒸气的基材表面的羟化的系统与方法。

主权项

一种羟化基材表面的系统，所述系统包括：腔室主体，所述腔室主体具有腔室壁、腔室板与腔室盖，所述腔室壁、所述腔室板与所述腔室盖界定腔室工艺区域；晶圆支撑件；一个或更多个注射器，所述一个或更多个注射器将胺类与氢氧化物输送至所述腔室工艺区域；压力控制阀，所述压力控制阀控制所述腔室工艺区域中的压力；控制系统，所述控制系统包括胺类流量控制器、氢氧化物流量控制器以及改变氢氧化物的分压的控制器，其中所述胺类流量控制器与所述氢氧化物流量控制器控制胺类与氢氧化物流动到所述腔室工艺区域内的流量，以使所述基材的所述表面同时地暴露于所述氢氧化物与所述胺类，而提供经羟化的基材表面；以及传送阀，所述传送阀在所述腔室主体上并位于所述工艺区域与传送腔室之间，所述传送阀允许在受控压力下将所述基材移动到所述传送腔室，并避免所述经羟化的基材暴露于外界空气。