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发明名称
并行扫描激光预处理装置及方法
摘要
本发明公开了一种并行扫描激光预处理装置及方法,属于光学技术领域。装置包括沿激光传输方向设置的激光光源、机械快门、能量衰减器、光束汇聚系统、分光劈板和合束镜,还包括光束轮廓仪、激光能量计、信标光源和电动位移台;光学元件置于电动位移台上;装置与光学元件之间设有倾斜镜阵列,光学元件前设置有检测相机。本发明在重复利用激光能量提高预处理效率的同时,解决了损伤导致的反射辐照不均匀问题,可高速有效提升大口径光学元件激光损伤阈值。
申请公布号
CN103434149A
申请公布日期
2013.12.11
申请号
CN201310385524.2
申请日期
2013.08.30
申请人
成都精密光学工程研究中心
发明人
马平;郑轶;刘志超;浦云体;王刚
分类号
B29C71/04(2006.01)I
主分类号
B29C71/04(2006.01)I
代理机构
代理人
主权项
一种并行扫描激光预处理装置,包括沿激光传输方向设置的激光光源(1)、机械快门(2)、能量衰减器(3)、光束汇聚系统(4)、分光劈板(5)和合束镜(13),还包括光束轮廓仪(6)、激光能量计(7)、信标光源(8)和电动位移台(12);光学元件(11)置于电动位移台(12)上;其特征在于,装置与光学元件(11)之间设有倾斜镜阵列(9),光学元件(11)前设置有检测相机(10)。
地址
610041 四川省成都市高新区科园一路3号
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