一种存储器用机械抛光液

摘要

本发明公开了一种存储器用机械抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：表面活性剂1-3份，有机添加剂2-5份，调节剂1-3份，水性介质50-55份，纳米石墨粉1-2份，氨水7-13份，氢氧化铝7-13份，空心玻璃微珠9-13份，山梨醇11-18份，聚丙烯7-10份，聚乙烯9-16份，甘油1-8份，二本甲酮7-16份，偶联剂1-7份，十二烷基苯磺酸钠1-2份。本发明的抛光液性能稳定，抛光效果好，可满足制备纳电子相变存储器中工艺的需要。

主权项

一种存储器用机械抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：表面活性剂1‑3份，有机添加剂2‑5份，调节剂1‑3份，水性介质50‑55份，纳米石墨粉1‑2份，氨水7‑13份，氢氧化铝7‑13份，空心玻璃微珠9‑13份，山梨醇11‑18份，聚丙烯7‑10份，聚乙烯9‑16份，甘油1‑8份，二本甲酮7‑16份，偶联剂1‑7份，十二烷基苯磺酸钠1‑2份。