| 发明名称 | 用于光学和电子器件的多陶瓷层图案化结构基板 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种用于光学和电子器件的多陶瓷层图案化结构基板，包括金属基体，并且在所述金属基体上依次形成有耐压陶瓷层和导热陶瓷层；所述耐压陶瓷层和导热陶瓷层之间具有过渡层，并通过蚀刻所述导热陶瓷层以及过渡层形成多个隔离基座。本实用新型所述的用于光学和电子器件的多陶瓷层图案化结构基板，具有更大尺寸的金属基板，并且可以容纳多个光学和/或电子器件，而且所述的多个光学和/或电子器件之间具有良好的电隔离和热隔离。 | ||
| 申请公布号 | CN203339146U | 申请公布日期 | 2013.12.11 |
| 申请号 | CN201320345006.3 | 申请日期 | 2013.06.17 |
| 申请人 | 苏州晶品光电科技有限公司 | 发明人 | 高鞠 |
| 分类号 | H01L23/373(2006.01)I;H01L23/18(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L23/14(2006.01)I;H01L23/15(2006.01)I | 主分类号 | H01L23/373(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人 | 汤东凤 |
| 主权项 | 一种用于光学和电子器件的多陶瓷层图案化结构基板，包括金属基体，其特征在于在所述金属基体上依次形成有耐压陶瓷层和导热陶瓷层；所述耐压陶瓷层和导热陶瓷层之间具有过渡层，并且通过蚀刻所述导热陶瓷层以及过渡层形成多个隔离基座。 | ||
| 地址 | 215211 江苏省苏州市吴江区汾湖镇汾湖大道558号科创园科研二号楼三楼(南) | ||