发明名称 连续式真空蒸发镀膜装置
摘要 本实用新型公开了一种连续式真空蒸发镀膜装置,包括:镀膜室、工件架和膜料架;镀膜室一端连通第一过渡室,另一端连通第二过渡室;第一过渡室、镀膜室、第二过渡室内分别设有第一轨道和第二轨道;第一过渡室两端和第二过渡室两端分别设有插板阀;第一过渡室、镀膜室、第二过渡室分别配置有独立的抽气系统。本实用新型所提供的装置运行中,除了工件架和膜料的装卸采用人工外,其他操作由装置自动完成,大大提高了镀膜效率,保证了产品膜层的一致性。同时镀膜室内可保持高真空状态,杂质气体少,可有效地防止膜料蒸气被杂质气体污染,从而可以获得品质更优的膜层。
申请公布号 CN203333745U 申请公布日期 2013.12.11
申请号 CN201320288748.7 申请日期 2013.05.23
申请人 深圳市生波尔机电设备有限公司 发明人 刘潺
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人 胡海国
主权项 一种连续式真空蒸发镀膜装置,包括:镀膜室、工件架和膜料架,其特征在于,所述镀膜室一端连通第一过渡室,另一端连通第二过渡室;所述第一过渡室、镀膜室、第二过渡室内分别设有传输所述工件架的第一轨道和传输所述膜料架的第二轨道;所述第一过渡室两端和第二过渡室两端分别设有可开关的用于隔离气体的插板阀;所述第一过渡室、镀膜室、第二过渡室分别配置有独立的抽气系统。
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