| 发明名称 | 基于光源调制的掩模预对准系统及预对准方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种基于光源调制的掩模预对准系统，包括：光源单元，用于为该系统提供预对准光束；至少一光源内调制单元，用于调制该对准光束；掩模板及位于该掩模板上的标记；一四象限传感器单元，用于接收该调制后对准光束照射该标记后的光强信号；一信号采集调理解调单元，用于采集该光强信号；一掩模板运动及控制系统，根据该光强信号调整该掩模板的位置。本发明同时公开一种基于光源调制的掩模预对准方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103425005A | 申请公布日期 | 2013.12.04 |
| 申请号 | CN201210159466.7 | 申请日期 | 2012.05.22 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 | 发明人 | 唐文力;王海江;王丽 |
| 分类号 | G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种基于光源调制的掩模预对准系统，其特征在于，包括：光源单元，用于为所述系统提供预对准光束；至少一光源内调制单元，用于调制所述对准光束；掩模板及位于所述掩模板上的标记；一四象限传感器单元，用于接收所述调制后对准光束照射所述标记后的光强信号；一信号采集调理解调单元，用于采集所述光强信号；一掩模板运动及控制系统，根据所述光强信号调整所述掩模板的位置。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||