| 发明名称 | 超声清洁方法以及超声清洁装置 | ||
| 摘要 | 本发明的主题提供了能够以稳定的方式得到高的颗粒去除率的超声清洁方法和超声清洁装置。解决问题的方法是一种超声清洁方法，用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁的物体，所述方法用超声波辐照所述液体，并包括以下步骤：制备溶解有气体的液体(S10)。用超声波辐照液体的同时搅拌液体，实现含有溶解在液体中的气体的气泡连续产生的状态(S20)。待清洁的物体在含有气体的气泡连续产生的状态中被清洁(S30)。 | ||
| 申请公布号 | CN103418574A | 申请公布日期 | 2013.12.04 |
| 申请号 | CN201310189030.7 | 申请日期 | 2013.05.21 |
| 申请人 | 硅电子股份公司 | 发明人 | 榛原照男;久保悦子;森良弘;内部真佐志 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 过晓东;谭邦会 |
| 主权项 | 一种超声清洁方法，用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁的物体(W)，所述方法用超声波辐照所述液体，并包括以下步骤：‑制备其中溶解有所述气体的所述液体；‑在用超声波辐照所述液体的同时搅拌所述液体，和实现含有溶解在所述液体中的所述气体的气泡连续产生的状态；以及‑在含有所述气体的气泡连续产生的状态中清洁待清洁的所述物体(W)。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||