| 发明名称 |
Sputtering target and oxide semiconductor film |
| 摘要 |
<p>A sputtering target containing oxides of indium (In), gallium (Ga) and zinc (Zn), which includes a compound shown by ZnGa 2 O 4 and a compound shown by InGaZnO 4 .</p> |
| 申请公布号 |
EP2669402(A1) |
申请公布日期 |
2013.12.04 |
| 申请号 |
EP20130181009 |
申请日期 |
2007.11.30 |
| 申请人 |
IDEMITSU KOSAN CO., LTD. |
发明人 |
INOUE, KAZUYOSHI;YANO, KOKI;UTSUNO, FUTOSHI |
| 分类号 |
C23C14/34;C04B35/01;C04B35/453;C04B35/626;C04B35/64;C23C14/08 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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