发明名称 |
基板研磨液之使用点处理方法与系统 |
摘要 |
本案实施方式大致提供用来处理基板处理期间(例如,来自电化学机械研磨(ECMP)期间)所产生的废弃流出物之方法与设备。在一实施方式中,提供一种用以处理在研磨制程中所产生的废弃流出混合物的方法,包含流动废弃流出物(其包括来自基板处理系统之螯合的金属错化物);将该废弃流出物与氧化剂组合在一起,以产生自由的螯合剂;流动该废弃流出物使通过有机黏土介质与活性碳介质,以移除自由的螯合剂;并流动该废弃流出物使通过阴离子交换树脂,以移除金属离子并产生废水。 |
申请公布号 |
TWI417430 |
申请公布日期 |
2013.12.01 |
申请号 |
TW096131545 |
申请日期 |
2007.08.24 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 美国 |
发明人 |
戈登乔许H;波薛夫彼得I;伍斯顿麦可R;基萨聂寇麦克 |
分类号 |
C25F3/30;C02F1/42 |
主分类号 |
C25F3/30 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |