盐、酸发生剂及使用其之抗蚀剂材料、空白光罩，及图案形成方法

摘要

本发明提供一种以通式(1)表示之鋶盐： (1)(R1表示亦可含有杂原子之1价烃基。不含R1为乙烯基及异丙烯基之情形；R2、R3及R4表示烷基、烯基或侧氧基烷基、或芳基、芳烷基或芳基侧氧基烷基，或可为R2、R3及R4当中任2个以上彼此键结并与式中之硫原子一起形成环；n为1～3)。;本发明之化学放大型抗蚀剂材料，焦点余裕度优异，PED经过长时间仍少有线宽变动、形状劣化，且显影后之图案轮廓形状优异，具有适于微细加工的高解像性。