曝光装置

摘要

在曝光装置中，设置有射入透过了光源和掩模的曝光用光，并以具有规定的规则性配置的使正立等倍像在基板上成像的多个微透镜的微透镜阵列。进而，在基板到达了规定位置时，从光源脉冲地照射激光，将基板依次曝光，在基板的曝光对象区域的全域被曝光之后，将微透镜阵列与掩模的相对位置关系，仅以微透镜的行间距，在列方向依次切换，进行下一个顺序的曝光。由此，能以短曝光行程进行高精度且高分辨率的曝光。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，具有：脉冲地发出激光的光源；形成了应曝光的图案的掩模；使正立等倍像在基板上成像的多个微透镜在行方向的第一方向排列并且在列方向的第二方向以规定的行间距设置多行的微透镜阵列；将来自所述光源的激光通过所述掩模导入所述微透镜阵列的光学系统；使所述基板在所述第二方向移动的驱动装置；将所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系仅以所述微透镜的所述行间距在所述第二方向依次切换的切换装置；以及将基于所述驱动装置的所述基板的移动、基于所述切换装置的所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系的切换、以及所述激光的照射定时进行控制的控制装置。