一种硅片清洗设备

摘要

本实用新型提供一种硅片清洗设备。现有技术采用浸泡和喷淋共同对硅片进行清洗导致清洗成本过高，另外传输滚轮上仅具有滚轮会导致硅片偏移碰撞导致碎片。本实用新型的硅片清洗设备，包括清洗槽、多个清洗模块以及设置在清洗槽中且间隔排布的多个第一传输滚轮和第二传输滚轮，所述第一和第二传输滚轮均具有多个沿周向突出且直接传送硅片的滚轮，所述第二传输滚轮上还具有多个沿周向突出且高于滚轮的引导轮，所述硅片在至少两个引导轮限定下传输。本实用新型可降低硅片的碎片率，且有效节约了清洗成本。

主权项

一种硅片清洗设备，包括清洗槽、多个清洗模块以及设置在清洗槽中且间隔排布的多个第一传输滚轮和第二传输滚轮，所述第一和第二传输滚轮均具有多个沿周向突出且直接传送硅片的滚轮，其特征在于，所述第二传输滚轮上还具有多个沿周向突出且高于滚轮的引导轮，所述硅片在至少两个引导轮限定下传输。