可移除的间隔物

摘要

提供形成半导体装置的方法。在基底的表面上形成闸极堆叠。提供用于在闸极堆叠的侧边上形成聚合物间隔物的复数个工作循环，其中，各别工作循环包括：提供沈积阶段，在聚合物间隔物的侧边上及基底的表面上沈积材料；以及提供清洁阶段，移除基底的表面上的聚合物及使沈积的材料的轮廓成形。使用聚合物间隔物作为掺杂剂掩罩，将掺杂剂植入基底。移除聚合物间隔物。