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发明名称
印章之印面结构
摘要
本创作系揭露一种印章之印面结构,其包含一印章本体、一印面图案及一装饰单元。印章本体之一端具有一印面。印面图案系设置于印面,且印面图案系包含一第一预定图案及一第二预定图案;第二预定图案设置于邻近于第一预定图案处,或设置于第一预定图案内。装饰单元系嵌设于第二预定图案内,且装饰单元系凹入印面一预定距离。藉此,本创作所构成之印面图案除具有更多样的图案变化性之外,更能够提高使用时的方向辨识性。
申请公布号
TWM466018
申请公布日期
2013.11.21
申请号
TW102212547
申请日期
2013.07.03
申请人
亚诺全球企业有限公司
发明人
苏一夫
分类号
B41K1/02
主分类号
B41K1/02
代理机构
代理人
李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3
主权项
地址
新北市板桥区莒光路135号4楼之1 TW
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