发明名称 含氟化合物,含氟聚合物,负型光阻组成物,以及使用彼的图案形成方法
摘要 揭示的为式(1)所示含氟不饱和羧酸,;(1);其中R1示含可聚合双键的基团,R3示氟原子或含氟烷基,W示二价连接基团。此化合物可提供重量平均分子量为1,000-1,000,000的含氟聚合化合物且含式(2)所示重复单元,;(2);其中R3与W如上定义,各R4、R5与R6独立地表示氢原子,氟原子或单价有机基团,R4、R5与R6中至少二个可合并形成环。此聚合化合物可提供对KrF或ArF准分子雷射光为透明的化学放大光阻组成物,且其具有高解析度,并能够形成具有矩形截面而无膨润的图案。
申请公布号 TWI415837 申请公布日期 2013.11.21
申请号 TW097124251 申请日期 2008.06.27
申请人 中央硝子股份有限公司 日本 发明人 矶野芳美;强纳森 乔德瑞;成塚智;山中一广
分类号 C07C69/653;C08F220/22;C08F220/26;G03F7/038;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 C07C69/653
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本