发明名称 System und Verfahren für einen verbesserten Scannerdurchsatz
摘要 <p>Es wird ein Verfahren und ein System zur Verbesserung eines Scannerdurchsatzes zur Verfügung gestellt. Ein Bild eines Retikels wird unter Verwendung eines kontinuierlichen linearen Abtastvorganges auf ein Substrat projiziert, wobei eine gesamte Spalte eines Halbleiterplättchens oder Zellen eines Halbleiterplättchens kontinuierlich abgetastet werden, das heißt ohne einen Schritt an eine andere Position zu machen. Jede Abtastung beinhaltet das Verschieben des Substrates relativ zu einem feststehenden Strahl. Während das Substrat verschoben wird, wird auch das Retikel verschoben. Wenn ein erstes Halbleiterplättchen oder eine Zelle eines Halbleiterplättchens auf das Substrat projiziert wird, wird das Retikel entlang einer Richtung verschoben, die zu der Abtastrichtung entgegengesetzt ist, und während die Abtastung in dieselbe Richtung fortschreitet, wird das Retikel in die entgegengesetzte Richtung des Substrates verschoben, wodurch auf dem nächsten Halbleiterplättchen oder auf der nächsten Zelle eine invertierte Struktur gebildet wird. Die mit der Belichtung des Substrates verbundene Zeit ist minimiert, da der Schrittversetzungsvorgang nur nach dem Abtasten einer gesamten Spalte von Zellen auftritt.</p>
申请公布号 DE102013103956(A1) 申请公布日期 2013.11.21
申请号 DE201310103956 申请日期 2013.04.19
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 LIU, YU-MEI;LIN, CHIN-HSIANG;LIU, HENG-HSIN;LEE, HENG-JEN;HUANG, I-HSIUNG;LIU, CHIH-WEI
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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