发明名称 有机EL用掩模清洁装置及方法
摘要 本发明的目的是,在进行去除附着在有机EL用掩模上的蒸镀物的清洁时,以对基板完全非接触的状态,去除蒸镀物。本发明的掩模清洁装置用于去除附着在形成有若干开口部(4)的有机EL用掩模(2)上的蒸镀物质(20)。在有机EL用掩模(2)的表面,借助电流镜(16)使得从激光光源(15)发出的激光在Y方向扫描,用移动部(14)将掩模板(2)在X方向移动,这样,进行掩模板(2)整个面的扫描。在有机EL用掩模(2)的上方,由送风部(17)和吸引部(18)形成空气流(30),借助激光扫描,使得将蒸镀物质(20)破碎而变成的游离生成物(21)向上方飞散,用空气流(30)运送并除去,进行清洁。
申请公布号 CN103394490A 申请公布日期 2013.11.20
申请号 CN201310332668.1 申请日期 2009.09.17
申请人 株式会社日立高新技术 发明人 井崎良;片冈文雄;片桐贤司;韭泽信广
分类号 B08B7/00(2006.01)I;B08B15/00(2006.01)I 主分类号 B08B7/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 吕晓阳
主权项 一种有机EL用掩模清洁装置,用于去除附着在有机EL用掩模上的蒸镀物质,其特征在于,具有:激光机构,对上述有机EL用掩模的蒸镀面以朝上的方式配置的该蒸镀面照射激光,使得将上述蒸镀物质破碎而产生的游离生成物向上方飞散;空气流形成机构,在离开上述有机EL用掩模的表面的位置形成空气流,该空气流以沿着该表面的方式运送游离生成物;以及第2空气流形成机构,从有机EL用掩模的背面侧,经由设置于该有机EL用掩模的开口部,朝向形成于上述有机EL用掩模的表面和上述空气流之间的无风区域,形成上升空气流。
地址 日本东京都