发明名称 |
一种撞击流-旋转盘耦合反应装置及其用于合成超细氢氧化镁阻燃剂的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种撞击流-旋转盘耦合反应装置在制备超细氢氧化镁阻燃剂方面的应用,属于无机化工反应装置的技术领域。该反应装置包括撞击流-旋转盘耦合反应器,反应器包括壳体,壳体内部设有圆盘,圆盘随转轴旋转,壳体顶部安装A进液管和B进液管,下端连接液体再分布器,A进液管和B进液管管道下方两喷嘴相向对称设置,液体再分布器安装于圆盘上方;反应器两侧分别设有A储液槽和B储液槽,A储液槽和B储液槽分别通过泵、流量计连接反应器的A进液管和B进液管。本装置具有结构简单,混合效率高,运行稳定,能耗低,易维护的优势且所得产品分散性好,粒径分布均匀。 |
申请公布号 |
CN103395807A |
申请公布日期 |
2013.11.20 |
申请号 |
CN201310338819.4 |
申请日期 |
2013.08.06 |
申请人 |
中北大学 |
发明人 |
刘有智;申红艳;张巧玲;栗秀萍;焦纬洲 |
分类号 |
C01F5/22(2006.01)I |
主分类号 |
C01F5/22(2006.01)I |
代理机构 |
太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 |
代理人 |
江淑兰 |
主权项 |
一种撞击流‑旋转盘耦合反应装置,其特征在于:包括撞击流‑旋转盘耦合反应器,撞击流‑旋转盘耦合反应器包括壳体,壳体内部中央设有圆盘,圆盘随其下方连接的转轴旋转,壳体顶部安装A进液管和B进液管,A进液管和B进液管的下端连接液体再分布器,A进液管和B进液管管道下方分别设有喷嘴,且两喷嘴相向对称设置,液体再分布器安装于圆盘的中心位置上方,反应器底部的转轴通过电机、变频器控制;反应器两侧分别设有A储液槽和B储液槽,A储液槽和B储液槽分别通过泵、流量计连接反应器的A进液管和B进液管。 |
地址 |
030051 山西省太原市尖草坪区学院路3号 |