发明名称 氧化锌纳米棒阵列薄膜的制备方法
摘要 本发明属于半导体薄膜制备技术领域,尤其涉及一种氧化锌纳米棒阵列薄膜的制备方法。本发明的技术方案为:氧化锌纳米棒阵列薄膜的制备方法,包括以下步骤:1)采用高度(001)取向的ZnO作为种子层,将ZnO种子层放入硝酸锌(Zn(NO3)2)、聚乙烯亚胺(PEI)和六次甲基四胺(HMT)水溶液中外延生长得到(001)择优取向的超长ZnO纳米棒阵列薄膜;2)对薄膜进行快速退火处理,提高ZnO阵列薄膜光致发光性能。该技术能够实现ZnO纳米棒在高于100℃下的连续生长,高温生长条件改善了纳米棒的结晶质量,内部缺陷明显减少,具有优良的光电性能,更有利于在染料敏化太阳能电池、紫外探测器、场效应晶体管、发光二级管、纳米发电机等光电器件中的应用。
申请公布号 CN103397382A 申请公布日期 2013.11.20
申请号 CN201310356630.8 申请日期 2013.08.16
申请人 济南大学 发明人 武卫兵;刘宽菲;张楠楠;陈晓东;陈宝龙
分类号 C30B29/16(2006.01)I;C30B19/00(2006.01)I;C30B29/62(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I 主分类号 C30B29/16(2006.01)I
代理机构 济南日新专利代理事务所 37224 代理人 谢省法
主权项 氧化锌纳米棒阵列薄膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:1)采用(001)择优取向ZnO种子层作为种子层,将ZnO种子层放入硝酸锌(Zn(NO3)2)、聚乙烯亚胺(PEI)和六次甲基四胺(HMT)水溶液中外延生长得到(001)择优取向的超长ZnO纳米棒阵列薄膜;2)对薄膜进行快速退火处理,提高ZnO阵列薄膜光致发光性能。
地址 250022 山东省济南市市中区济微路106号