| 发明名称 | 成膜方法及成膜装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种不使用有毒气体而在大气压下有效地形成含有高浓度的杂质的膜的成膜方法等。本发明的成膜方法构成为，将硼或五氧化二磷等杂质的固态源加热并使其蒸发而产生气体，通过将得到的气体向被预热的基板的表面喷射，从而在所述基板上形成含有杂质的膜。 | ||
| 申请公布号 | CN103392222A | 申请公布日期 | 2013.11.13 |
| 申请号 | CN201280009843.7 | 申请日期 | 2012.02.14 |
| 申请人 | 株式会社山景工程 | 发明人 | 本间孝治;犬塚仁 |
| 分类号 | H01L21/225(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I;H01L21/316(2006.01)I;H01L31/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/225(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 刘晓迪 |
| 主权项 | 一种成膜方法，其特征在于，将杂质的固态源加热并使其蒸发而产生气体，通过将所述气体向基板喷射而在所述基板上形成含有杂质的膜。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||