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마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 도구(10)를 조작하는 방법이 제공된다. 투영 노광 도구(10)는 전자기 방사선(13, 13a, 13b)을 이용하여 마스크(20) 상의 물체 구조들을 이미지 평면(28)으로 이미징하기 위한 투영 대물렌즈를 가지고, 이러한 이미징 동안에 전자기 방사선(13b)은 투영 대물렌즈(26)의 광학적 특성들의 변화를 야기한다. 이 방법은 다음 단계들을 포함한다: 이미지될 마스크(20) 상의 물체 구조들의 레이아웃을 제공하는 것, 및 그것들의 구조의 유형에 따라 물체 구조들을 분류하는 것, 물체 구조들의 분류에 기초하여 이미징 프로세스 동안에 이루어진 투영 대물렌즈(26)의 광학적 특성들의 변화를 계산하는 것, 및 물체 구조들을 이미지 평면(28)에 이미징하기 위해 투영 노광 도구(10)를 이용하는 것으로서, 여기서 투영 노광 도구(10)의 이미징 행동은 이미징 프로세스 동안에 전자기 방사선(13, 13a, 13b)에 의해 야기된 투영 대물렌즈(26)의 광학적 특성들의 변화를 적어도 부분적으로 보상하기 위하여 광학적 특성들의 계산된 변화에 기초하여 조정된다. |
