Verfahren zur Herstellung eines metallischen Schichtverbundes, insbesondere bandförmigen Schichtverbundes

摘要

Die Erfindung betrifft die Herstellung eines Schichtverbundes mit dünnen Metallschichten auf und/oder in dem Schichtverbund durch zumindest zweimalige Reduktion dicker Schichten durch Walzplattieren und Walzen. Die dünnen Metallschichten sind weitgehend frei von nichtmetallischen Einschlüssen. Die Grenzfläche zwischen Schicht und Metallkörper ist vergleichsweise arm an Oxiden. Die nach einer Diffusionsglühung entstehende Mischkristallschicht kann im Endprodukt gezielt dünn ausgebildet werden.