离子浓度监控系统

摘要

一种离子浓度监控系统，其包括镀膜腔、向镀膜腔提供混合气体的气体供应装置、电离真空管、光纤及气体流量控制器。该镀膜腔内的混合气体被放电激发为不同的离子。该电离真空管的一端与镀膜腔连通，另一端通过光纤与气体流量控制器相连。该电离真空管激发混合气体产生发射光谱，该光谱通过光纤传输至气体流量控制器。该气体流量控制器包括用于设定镀膜腔内不同离子的浓度比例值的预设模块、用于分析发射光谱以获取镀膜腔内离子的实际浓度比例值的光谱分析模块及用于比较所设定的离子浓度比例值与实际离子浓度比例值的比较控制模块。所述比较控制模块根据比较结果控制气体供应装置的供气流量以将镀膜腔内的离子浓度比例维持为设定值。

主权项

一种离子浓度监控系统，其包括镀膜腔及向所述镀膜腔提供混合气体的气体供应装置，所述镀膜腔内的混合气体被放电激发为不同的离子，其特征在于：所述离子浓度监控系统还包括电离真空管、光纤及气体流量控制器，所述电离真空管包括输入端、输出端及位于输入端与输出端之间的真空放电腔，所述输入端与镀膜腔相连通，所述真空放电腔及输出端位于镀膜腔外，所述真空放电腔用于放电激发混合气体，所述输出端通过光纤与所述气体流量控制器相连接，所述电离真空管激发混合气体产生发射光谱,该发射光谱通过光纤传输至所述气体流量控制器，所述气体流量控制器包括：预设模块，用于设定镀膜腔内不同离子的浓度比例值；光谱分析模块，用于分析混合气体的发射光谱以获取镀膜腔内不同离子的实际浓度比例值；比较控制模块，其与所述预设模块、光谱分析模块和气体供应装置相连，用于比较所设定的离子浓度比例值与实际离子浓度比例值，并根据比较结果控制气体供应装置的供气流量以将镀膜腔内的离子浓度比例维持为设定值。