图案缺陷检查方法、光掩模制造方法和显示装置基板制造方法

摘要

本发明提供一种缺陷检查方法，所述缺陷检查方法适于检查在制造显示装置基板的光掩模或者显示装置基板中的光掩模(50)的主要图案(56)中产生的缺陷。主要图案包括其中周期性排列有单元图案的重复图案。在除所述主要图案之外的区域内与通过激光束扫描来刻画所述主要图案同时形成用于检查的辅助图案，由此在刻画所述主要图案中出现的位置或线宽的改变以相同的改变量出现在所述辅助图案中。辅助图案的周期小于主要图案的周期。所述方法将光线以预定的入射角辐射到辅助图案上，并由观察设备接收由辅助图案所产生的衍射光以检测所述辅助图案的刻画过程中所述改变的出现，从而确定主要图案的缺陷的存在。

主权项

一种用于对检查物体的主要图案中出现的缺陷进行检查的图案缺陷检查方法，所述主要图案包括其中周期性排列有单元图案的重复图案，其特征在于所述方法包括：在形成所述主要图案的步骤中，在除所述主要图案之外的区域内与通过激光束扫描来刻画所述主要图案同时形成用于检查的辅助图案，刻画设备的精度波动所造成的单元图案的位置或者线宽的改变在主要图案与辅助图案中以相同的改变量产生，所述辅助图案的周期小于所述主要图案的周期；将光线以预定的入射角辐射到所述辅助图案上以及由观察装置接收由所述辅助图案所产生的衍射光以检测所述辅助图案的刻画过程中所述改变的出现，从而确定所述主要图案的缺陷的存在，其中所述检查物体是用于制造显示装置基板的光掩模或者显示装置基板。