一种采用Lift-Off原理制作光栅的方法

摘要

本发明涉及光栅制作技术领域，公开了一种采用Lift-Off原理制作光栅的方法，首先在一光栅基片上制作光刻胶全息光栅；然后采用镀膜沉积技术在光刻胶全息光栅的光栅面上镀介质膜层；最后洗除光刻胶层，留下沉积在光栅基片上的介质膜层，构成介质膜光栅；在镀膜沉积过程中，介质膜料垂直沉积于光刻胶全息光栅的光栅面上，且介质膜层厚度低于光刻胶全息光栅的光刻胶槽深。本发明采用Lift-Off原理（剥离技术）制作介质膜光栅，避免了一些硬质膜系材料的刻蚀，同时可以实现较深凹槽深度的介质膜光栅的制作，适用于全息光栅的复制，有利于增加膜层结构的设计及控制光栅衍射效率，提高了光栅制作效率。

主权项

一种采用Lift‑Off原理制作光栅的方法，包括如下步骤：a）在一光栅基片上制作光刻胶全息光栅；b）采用镀膜沉积技术在光刻胶全息光栅的光栅面上镀介质膜层；c）洗除光刻胶层，留下沉积在光栅基片上的介质膜层，构成介质膜光栅；其特征在于：在镀膜沉积过程中，介质膜料垂直沉积于光刻胶全息光栅的光栅面上，且介质膜层厚度低于光刻胶全息光栅的光刻胶槽深。