发明名称 |
用于控制损伤的治疗过程的装置 |
摘要 |
本发明提供一种用于控制损伤的治疗过程的方法和装置。该方法包括步骤:监视(11)损伤的一氧化氮水平,通过将该一氧化氮水平与预定义的阈值相比较来生成(12)控制信号,以及根据控制信号调节(13)用于损伤治疗的光的剂量。 |
申请公布号 |
CN102271609B |
申请公布日期 |
2013.10.30 |
申请号 |
CN200980153391.8 |
申请日期 |
2009.12.22 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
P.克斯沃普;B.斯里尼瓦桑;S.R.库达维利 |
分类号 |
A61B18/20(2006.01)I;A61N5/06(2006.01)I;G01N27/72(2006.01)I |
主分类号 |
A61B18/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
谢建云;刘鹏 |
主权项 |
一种用于控制损伤治疗过程的装置,包括:‑ 监视单元(21),用于监视损伤的一氧化氮水平,‑ 生成单元(22),用于通过将一氧化氮水平与预定义的阈值相比较来生成控制信号,以及‑ 调节单元(23),用于根据控制信号来调节用于损伤治疗的光的剂量,其中监视单元(21)进一步旨在:‑ 检测由于从Fe2+到Fe3+的转换而形成的磁场,‑ 根据磁场,获取Fe3+水平,‑ 根据Fe3+水平,计算甲基血红蛋白水平,以及‑ 根据甲基血红蛋白水平与一氧化氮水平之间的比例关系,计算一氧化氮水平。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |