发明名称 用于控制损伤的治疗过程的装置
摘要 本发明提供一种用于控制损伤的治疗过程的方法和装置。该方法包括步骤:监视(11)损伤的一氧化氮水平,通过将该一氧化氮水平与预定义的阈值相比较来生成(12)控制信号,以及根据控制信号调节(13)用于损伤治疗的光的剂量。
申请公布号 CN102271609B 申请公布日期 2013.10.30
申请号 CN200980153391.8 申请日期 2009.12.22
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 P.克斯沃普;B.斯里尼瓦桑;S.R.库达维利
分类号 A61B18/20(2006.01)I;A61N5/06(2006.01)I;G01N27/72(2006.01)I 主分类号 A61B18/20(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 谢建云;刘鹏
主权项 一种用于控制损伤治疗过程的装置,包括:‑ 监视单元(21),用于监视损伤的一氧化氮水平,‑ 生成单元(22),用于通过将一氧化氮水平与预定义的阈值相比较来生成控制信号,以及‑ 调节单元(23),用于根据控制信号来调节用于损伤治疗的光的剂量,其中监视单元(21)进一步旨在:‑ 检测由于从Fe2+到Fe3+的转换而形成的磁场,‑ 根据磁场,获取Fe3+水平,‑ 根据Fe3+水平,计算甲基血红蛋白水平,以及‑ 根据甲基血红蛋白水平与一氧化氮水平之间的比例关系,计算一氧化氮水平。
地址 荷兰艾恩德霍芬