发明名称 |
碳质膜的制造方法、及石墨膜的制造方法、以及辊状高分子膜及辊状碳质膜 |
摘要 |
本发明的课题在于,在利用高分子热分解法的长尺寸(辊状)的碳质膜的制造中,抑制碳质膜的熔合。一种碳质膜的制造方法,其特征在于,其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法,在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下制成下述的辊状高分子膜后进行热处理,所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙,所述间隙满足下述关系:关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。另外,作为间隙的形成方法,在将高分子膜卷成辊状时,将衬纸同时卷取,然后抽出所述衬纸,通过使用上述方法,对抑制碳质膜的熔合具有效果。 |
申请公布号 |
CN103380082A |
申请公布日期 |
2013.10.30 |
申请号 |
CN201280008559.8 |
申请日期 |
2012.03.26 |
申请人 |
株式会社钟化 |
发明人 |
三代真琴;太田雄介;稻田敬;西川泰司 |
分类号 |
C01B31/04(2006.01)I;C01B31/02(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/04(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
周欣;陈建全 |
主权项 |
一种碳质膜的制造方法,其特征在于,其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法,在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下,当制成下述辊状高分子膜后进行热处理,所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙,所述间隙满足下述关系:关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。 |
地址 |
日本大阪府 |