曝光装置

摘要

一种曝光装置，用于制造半导体及液晶等，具备如下的光学系统：使用激光向放射紫外线等光的放电灯供给高能量的情况下，不会在放电容器上开孔，可以有效利用所产生的光。上述曝光装置具有：放射紫外线的光源；激光装置，用于向该光源射入供给能量的激光；椭圆反射镜，反射从该光源放射的紫外线；以及光学系统，使从配置在该椭圆反射镜的第1焦点上的该光源放射的光在该椭圆反射镜上反射，并经由包含准直透镜、积分透镜在内的光学元件照射被照射物，上述曝光装置的特征在于，为了从该椭圆反射镜的开口侧向该光源射入激光，在被该椭圆反射镜反射的光的光路中设置具有波长选择功能的光束分离器。

主权项

一种曝光装置，具有：放射紫外线的光源；激光装置，用于向该光源射入供给能量的激光；椭圆反射镜，反射从该光源放射的紫外线；以及光学系统，使从配置在该椭圆反射镜的第1焦点上的该光源放射的光在该椭圆反射镜上反射，并经由包含准直透镜、积分透镜在内的光学元件照射被照射物，上述曝光装置的特征在于，为了从该椭圆反射镜的开口侧向该光源射入激光，在被该椭圆反射镜反射的光的光路中设置具有波长选择功能的光束分离器，上述光源具备在放电容器内相对的一对电极，与该电极电连接的供电部从灯泡部的两端突出，连接该电极并通过各该供电部的灯轴与上述椭圆反射镜的长轴大致一致，上述激光装置在激光的射出口侧具有形成激光不会直接射入该光源的供电部及放电容器的中空光的构件。