多色调光掩模的制造方法和图案转印方法

摘要

本发明提供多色调光掩模的制造方法和图案转印方法，既能利用抗蚀剂图案的减膜来削减绘图和显影的次数，又能提高疏密部分之间的抗蚀剂图案的减膜速度的面内均匀性。所述制造方法具有如下步骤：形成第1抗蚀剂图案，该第1抗蚀剂图案覆盖遮光部的形成区域和半透光部的形成区域，且半透光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度比遮光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度薄；以及向第1抗蚀剂图案供给臭氧，对第1抗蚀剂图案进行减膜，其中，按照以下方式供给臭氧：提供给第1抗蚀剂图案的每单位面积的活性氧的供给量大于对第1抗蚀剂图案进行减膜而消耗的每单位面积的活性氧的消耗量。

主权项

一种多色调光掩模的制造方法，该制造方法在透明基板上形成包含遮光部、半透光部以及透光部的转印图案，其特征在于，该制造方法具有以下工序：准备光掩模坯体，该光掩模坯体是在所述透明基板上按顺序依次层叠半透光膜、遮光膜以及抗蚀剂膜而得到的；对所述抗蚀剂膜实施绘图和显影，形成第1抗蚀剂图案，该第1抗蚀剂图案覆盖所述遮光部的形成区域和所述半透光部的形成区域，且所述半透光部的形成区域中的所述抗蚀剂膜的厚度比所述遮光部的形成区域中的所述抗蚀剂膜的厚度薄；第1蚀刻工序，将所述第1抗蚀剂图案作为掩模对所述遮光膜和所述半透光膜进行蚀刻，使所述透明基板的一部分露出；向所述第1抗蚀剂图案供给臭氧，对所述第1抗蚀剂图案进行减膜，使所述半透光部的形成区域中的所述遮光膜露出，形成覆盖所述遮光部的形成区域的第2抗蚀剂图案；第2蚀刻工序，将所述第2抗蚀剂图案作为掩模对所述遮光膜进行蚀刻，使所述半透光膜的一部分露出；以及去除所述第2抗蚀剂图案，所述臭氧的供给，是通过在大气压中供给臭氧水来进行的。