发明名称 Strukturmessverfahren und Strukturmessgerät
摘要 Es wird ein Strukturmessverfahren und ein Strukturmessgerät bereitgestellt, welche ein Rasterelektronenmikroskop verwenden. REM-Bilder einer Messzielstruktur werden jeweils bei wenigstens zwei vorgegeben Beschleunigungsspannungen gewonnen. Weißbandbreiten der Messzielstruktur werden aus den gewonnenen REM-Bildern ermittelt. Dann wird ein Betrag der Änderung der Weißbandbreite zwischen den vorgegeben Beschleunigungsspannungen berechnet. Ein Seitenwandwinkel der Messzielstruktur wird auf der Grundlage einer im Vorhinein unter Verwendung einer Probe mit bekanntem Seitenwandwinkel experimentell erhaltenen Beziehung zwischen einem Betrag der Änderung einer Weißbandbreite und einem Seitenwandwinkel berechnet.
申请公布号 DE102013103466(A1) 申请公布日期 2013.10.10
申请号 DE201310103466 申请日期 2013.04.08
申请人 ADVANTEST CORPORATION;TOPPAN PRINTING CO., LTD. 发明人 MURAKAWA, TSUTOMU;YONEKURA, ISAO
分类号 G01B15/00;H01J37/26 主分类号 G01B15/00
代理机构 代理人
主权项
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