发明名称 |
双面记录介质 |
摘要 |
记录介质包括基材和该基材的第一表面和第二表面的每一个上的两个以上的墨接受层。该墨接受层均含有颜料和粘结剂。A1、A2、B1和B2(nm)满足关系(1)、(2)和(3),其中A1为该第一表面侧的最外墨接受层的孔半径分布的峰位置,A2为与该最外墨接受层相邻的墨接受层的孔半径分布的峰位置,B1为该第二表面侧的最外墨接受层的孔半径分布的峰位置,和B2为与该最外墨接受层相邻的墨接受层的孔半径分布的峰位置。该最外墨接受层的每一个的JIS B 0601中规定的算术平均粗糙度Ra为0.50μm以上。 |
申请公布号 |
CN102189865B |
申请公布日期 |
2013.10.09 |
申请号 |
CN201110030695.4 |
申请日期 |
2011.01.28 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
浅川浩;永岛齐;田中考利 |
分类号 |
B41M5/50(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I |
主分类号 |
B41M5/50(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
李帆 |
主权项 |
记录介质,包括:基材;设置在该基材的第一表面上的两个以上的墨接受层;和设置在该基材的第二表面上的两个以上的墨接受层,该第二表面与该第一表面相反,其中该墨接受层均含有颜料和粘结剂;满足关系(1)A1>A2、(2)B1>B2和(3)|A1‑B1|≤1.0,其中A1为该第一表面侧的最外墨接受层的孔半径分布的峰位置,单位为nm,A2为该第一表面侧的与该最外墨接受层相邻的墨接受层的孔半径分布的峰位置,单位为nm,B1为该第二表面侧的最外墨接受层的孔半径分布的峰位置,单位为nm,和B2为该第二表面侧的与该最外墨接受层相邻的墨接受层的孔半径分布的峰位置,单位为nm;和该第一表面侧的最外墨接受层和该第二表面侧的最外墨接受层的每一个的算术平均粗糙度Ra为0.50μm以上,该算术平均粗糙度Ra在JIS B0601中规定。 |
地址 |
日本东京 |