发明名称 | 一种调节日光温室草莓根圈环境温度的方法及设施 | ||
摘要 | 一种调节日光温室草莓根圈环境温度的方法,其特征在于采用直接在草莓高架栽培槽的栽培基质上布置管道支管,管道支管距离草莓植株5-8cm;冬季,提前给常压热水锅炉灌满水,加热水温至55~60℃,打开水泵,水流流经栽培基质上布置的管道,直接对草莓根圈环境进行加热,回水回到常压加热锅炉,通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在15~20℃;夏季,采用20~23℃的自来水温,无需加热,直接打开水泵,自来水流经栽培基质上布置的管道,直接对草莓根圈环境进行降温,回水回到常压加热锅炉,通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在23~25℃。本发明采用直接对草莓根圈环境加温或降温的方式,利于控制病虫害,利于草莓积累光合产物,利于提高根系活力,调温效果好,效率快,设备成本低,运行和维护费用少,同时节能,节水效果显著。 | ||
申请公布号 | CN103340120A | 申请公布日期 | 2013.10.09 |
申请号 | CN201310231814.1 | 申请日期 | 2013.06.13 |
申请人 | 沈阳农业大学 | 发明人 | 王蕊;方旋;须晖;马健;李天来 |
分类号 | A01G9/24(2006.01)I | 主分类号 | A01G9/24(2006.01)I |
代理机构 | 沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 | 代理人 | 张述学 |
主权项 | 一种调节日光温室草莓根圈环境温度的方法,其特征在于:采用直接在草莓高架栽培槽的栽培基质上布置管道支管,各支管距离草莓基茎部位5~8cm;冬季,提前给常压热水锅炉灌满水,加热水温至55~60℃,打开水泵,水流流经栽培基质上布置的管道,直接对草莓根圈环境进行加热,回水回到常压加热锅炉,通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在15~20℃;夏季,采用20~23℃的自来水温,直接打开水泵,自来水流经栽培基质上布置的管道支管,直接对草莓根圈环境进行降温,回水回到常压加热锅炉,通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在23~25℃。 | ||
地址 | 110866 辽宁省沈阳市沈河区东陵路120号 |