发明名称 等离子处理设备及监视等离子处理设备中的放电状态的方法
摘要 提供了一种能够适当地监视等离子放电状态并检测异常放电的预兆的等离子处理设备、以及监视等离子处理设备中的放电状态的方法。在通过由信号分析部分(30)检测响应于处理腔中的等离子放电改变而由放电检测传感器(23)感生并记录在信号记录器(20)中的电势改变信号而执行的用于监视放电状态的分析处理中,基于通过由第一检测器(33)检测在电极部分和要处理的对象之间产生的异常放电(第一电弧放电)信号而获得的计数值N3、和通过由第二检测器(35)检测由于处理腔中杂质沉积问题产生的微电弧放电(第二电弧放电)信号而获得的计数值N4,异常放电确定器(39)发现差(N3-N4),并将该差与用于确定的阈值a2进行比较,并且确定存在还是不存在在处理腔中产生异常放电的可能性。
申请公布号 CN102106193B 申请公布日期 2013.10.09
申请号 CN200980129344.X 申请日期 2009.06.29
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 野野村胜
分类号 H05H1/46(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I 主分类号 H05H1/46(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 胡琪
主权项 一种等离子处理设备,包括:真空腔,其形成处理腔;电极部分,布置在处理腔中并且与所述真空腔电隔离;真空排气部分,配置为通过真空从处理腔中排气;气体供应部分,配置为将用于等离子产生的气体供应到处理腔中;高频电源部分,配置为当在电极部分上施加高频电压时在处理腔中产生等离子放电;匹配设备,配置为将配置用来产生等离子放电的等离子放电电路的阻抗与高频电源部分的阻抗相匹配;放电检测传感器,至少包括平板状电介质件以及探针电极,所述平板状电介质件被布置为使得其一个表面面对在处理腔中产生的等离子放电,并且所述探针电极被布置在该电介质件的另一表面上;以及信号分析部分,配置为检测响应于等离子放电的改变而在探针电极中感生的电势改变信号、并且执行用于监视放电状态的分析处理,其中,所述等离子处理设备被配置为对放置在电极部分上的要处理的对象执行等离子处理,并且其中所述信号分析部分包括:第一检测器,配置为检测由在电极部分和要处理的对象之间产生的异常电弧放电感生的电势改变信号;第二检测器,配置为检测由与所述异常电弧放电不同的微电弧放电感生的电势改变信号;以及异常放电确定部分,配置为获得在预定时间内第一检测器的检测次数和第二检测器的检测次数之间的差,将该差与一阈值进行比较,并且如果该差超过了所述阈值,则确定存在在处理腔中产生异常放电的可能性,其中,在第一检测器中设置用于检测由所述异常电弧放电感生的电势改变信号的第一阈值,其中,在第二检测器中设置用于检测由所述微电弧放电感生的电势改变信号的第二阈值,其中,第二阈值的绝对值大于第一阈值的绝对值,其中,第一阈值的正或负符号与第二阈值的正或负符号相反。
地址 日本大阪府