发明名称 |
一种扫描镀膜装置及扫描镀膜组件 |
摘要 |
本发明涉及一种用于半导体、LED、太阳能电池领域的镀膜装置及镀膜组件。一种扫描镀膜装置包括镀膜源、真空腔体室和基板传输模块,蒸镀源包括温度控制模块、载流气体进气模块、喂料模块、排气模块和绝热模块,前四个模块均设置于蒸镀源本体中;真空腔体室包围蒸镀源;蒸镀源具有两个相背的蒸镀源工作面,蒸镀源工作面与水平面所成角度为65~115°。本发明的蒸镀源与基板的相互位置关系以及蒸镀源的结构实现了同时对两片基板进行连续的气相传输沉积镀膜,使得生产效率加倍;大幅提高源材料利用率;减少腔体壁上形成镀膜,装置外壁清洁;降低了生产成本;基板边缘镀膜均匀。扫描镀膜组件可同时对多基板进行气相传输沉积,使得生产效率提高若干倍。 |
申请公布号 |
CN102312199B |
申请公布日期 |
2013.10.02 |
申请号 |
CN201110190208.0 |
申请日期 |
2011.06.30 |
申请人 |
上方能源技术(杭州)有限公司 |
发明人 |
赵军;梅芳;陈金良;苏永顺 |
分类号 |
C23C14/24(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/24(2006.01)I |
代理机构 |
湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 |
代理人 |
赵卫康 |
主权项 |
一种扫描镀膜装置,包括镀膜源、真空腔体室(15)和基板传输模块,其特征在于:所述镀膜源为蒸镀源(1),所述蒸镀源(1)包括温度控制模块、载流气体进气模块、喂料模块、排气模块和绝热模块(23),所述温度控制模块、载流气体进气模块、喂料模块和排气模块模块均设置于蒸镀源本体(2)中;所述真空腔体室(15)包围所述蒸镀源(1);所述蒸镀源具有两个相背的蒸镀源工作面(22),所述蒸镀源工作面(22)与水平面所成角度为65~115°。 |
地址 |
311215 浙江省杭州市萧山区建设一路66号1201室 |