通过化学气相沉积合成材料，特别是金刚石的方法，和应用该方法的设备

摘要

本发明涉及通过化学气相沉积(CVD)合成材料的方法，根据该方法在真空腔室中在衬底附近产生等离子体，并且根据该方法将带碳的物质与H2引入腔室以在腔室中制得气体，所述气体包含带有不饱和分子或自由基形式的反应性碳原子的物质，所述材料的合成将由所述不饱和分子或自由基进行，并且使用待合成固体材料的电磁吸收和无弹性扩散光谱以从所述光谱中吸收有助于使得待合成固体材料形成的反应的吸收频率，并且产生光子束形式的高能射线，所述光子束带有由对应于所述吸收和无弹性扩散频率的每个频率确定的能量数量，所述光子束注射到等离子体中，其中对于固体材料的能态，通过带有所述反应性碳原子的物质进行具有对应于这些能态的能量的这些光子的吸收。

主权项

通过化学气相沉积(CVD)来合成材料，特别是金刚石的方法，根据该方法在真空腔室中在布置成承载待合成材料的衬底附近产生等离子体，并且根据该方法将带碳的物质，特别是CH4或C2H2与H2引入腔室以在腔室中制得气体，所述气体包含带有不饱和分子或自由基形式的反应性碳原子的物质，所述材料的合成将由所述不饱和分子或自由基进行，特征在于：使用待合成材料的电磁吸收和无弹性扩散光谱以从这些光谱中提取有助于导致待合成材料形成的反应的吸收频率，并且产生光子束形式的高能射线，所述光子束带有由对应于所述吸收和无弹性扩散频率的每个频率确定的能量数量，所述光子束注射到等离子体中，其中对于固体材料的能态，通过带有所述反应性碳原子的物质进行具有对应于这些能态的能量的这些光子的吸收。