浸液式曝光用光阻组成物及使用其之光阻图型之形成方法，与含氟化合物

摘要

一种浸液式曝光用光阻组成物，其特征为含有，经由酸之作用而对硷显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，与经由曝光而发生酸之酸产生剂成份(B)，与对硷显影液显示分解性之通式(c-1)[式中，R1为有机基，其可含有聚合性基。惟，该聚合性基为，碳原子间具有多重键结之聚合性基，其碳原子中任一者为，未直接键结于式(c-1)中之-C(=O)-的碳原子之基。R2为具有氟原子之有机基]所表示之含氟化合物(C)。