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<p>본 발명의 목적은 한계 해상력, 러프니스 특성, 노광 래티튜드(EL) 및 브리지 결함 특성이 우수한 패턴 형성 방법 및 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물을 제공한다. 패턴 형성 방법은 (1) 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물을 막으로 형성하는 공정, (2) 상기 막을 노광하는 공정, 및 (3) 유기 용제를 함유하는 현상액으로 상기 노광된 막을 현상하는 공정을 포함한다. 상기 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물은 (A) 활성광선 또는 방사선에 노광시에 분해되어 산을 발생하는 구조부를 갖는 반복단위를 함유하는 수지, 및 (B) 용제를 함유한다.</p> |
