| 摘要 |
1. Способ изготовления легированной тонкой пленки графена, который включает:гетероэпитаксиальное выращивание промежуточной тонкой пленки графена на тонкой пленке катализатора, где тонкая пленка катализатора имеет, по существу, моноориентированную крупнозернистую кристаллическую структуру;легирование промежуточной тонкой пленки графена легирующими примесями n-типа или р-типа при изготовлении легированной тонкой пленки графена,где легированная тонкая пленка графена имеет поверхностное сопротивление меньше, чем 150 Ом/квадрат.2. Способ по п.1, где легирование промежуточной тонкой пленки графена включает:воздействие на промежуточную тонкую пленку графена легирующим газом, содержащим материал, используемый в качестве легирующей добавки;возбуждение плазмы внутри камеры, содержащей промежуточную тонкую пленку графена и легирующий газ; иимплантирование легирующей добавки с помощью ионного пучка в промежуточной тонкой пленке графена с использованием данного материала в легирующем газе.3. Способ по п.2, где мощность ионного пучка составляет 10-200 эВ.4. Способ по п.2, где мощность ионного пучка составляет 20-40 эВ.5. Способ по п.1, где легирование промежуточной тонкой пленки графена включает:обеспечение целевой приемной подложки, включающей твердотельные легирующие добавки в ней, причем легирующие добавки включены в целевую приемную подложку посредством процесса плавления, используемого для изготовления целевой приемной подложки; иобеспечение возможности мигрирования твердотельных легирующих добавок из целевой приемной подложки в промежуточную тонкую пленку графена путем термической диффузии.6. Способ по п.5, � |
