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发明名称
组合式处理系统
摘要
提供一组合式处理腔室。此组合式处理腔室系用以隔绝可旋式基板支撑物的径向部分,此基板支撑物转而用以支撑一基板。在一实施例中此腔室包括复数个丛集制程机头。在一实施例中具有底板的插件针对沉积制程定义一限制区域,其底板系设置于此基板支撑物与此制程机头之间。此底板具有一开口而使沉积材料能进入至此基板。经由此基板的转动与此开口的移动,此基板的多重区域系易于用以在单一基板上执行组合式处理。
申请公布号
TWI409900
申请公布日期
2013.09.21
申请号
TW097134164
申请日期
2008.09.05
申请人
分子间股份有限公司 美国
发明人
理查 恩窦;寇特 伟那;英卓尼 迪;詹姆士 曾;赵茂声;杰瑞米 郑
分类号
H01L21/67;H01L21/30
主分类号
H01L21/67
代理机构
代理人
许峻荣 新竹市民族路37号10楼
主权项
地址
美国
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