发明名称 组合式处理系统
摘要 提供一组合式处理腔室。此组合式处理腔室系用以隔绝可旋式基板支撑物的径向部分,此基板支撑物转而用以支撑一基板。在一实施例中此腔室包括复数个丛集制程机头。在一实施例中具有底板的插件针对沉积制程定义一限制区域,其底板系设置于此基板支撑物与此制程机头之间。此底板具有一开口而使沉积材料能进入至此基板。经由此基板的转动与此开口的移动,此基板的多重区域系易于用以在单一基板上执行组合式处理。
申请公布号 TWI409900 申请公布日期 2013.09.21
申请号 TW097134164 申请日期 2008.09.05
申请人 分子间股份有限公司 美国 发明人 理查 恩窦;寇特 伟那;英卓尼 迪;詹姆士 曾;赵茂声;杰瑞米 郑
分类号 H01L21/67;H01L21/30 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 许峻荣 新竹市民族路37号10楼
主权项
地址 美国