| 发明名称 |
真空腔室间的密封 |
| 摘要 |
一种密封系统，包括第一真空腔室和第二真空腔室。密封系统包括具有远端和近端的第一密封单元，第一密封单元的近端配置于第一真空腔室上。密封系统还包括具有远端和近端的第二密封单元，第二密封单元的远端配置于第一密封单元的远端上，并且第二密封单元的近端配置于第二真空腔室上。密封单元中之一者为凹形的，另一者为凸形的。密封系统还包括第一O形圈、第二O形圈和第三O形圈。 |
| 申请公布号 |
TWI409898 |
申请公布日期 |
2013.09.21 |
| 申请号 |
TW097130866 |
申请日期 |
2008.08.13 |
| 申请人 |
瓦里安半导体设备公司 美国 |
发明人 |
斯罗森 葛列格里Ｄ. THRONSON, GREGORY D. US;柏吉斯 杰弗里Ａ. BURGESS, JEFFREY A. US |
| 分类号 |
H01L21/67;H01L21/265 |
主分类号 |
H01L21/67 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
