| 摘要 |
课题;提供减低被处理基板的部的电浆的电场强度，藉由可提升电浆处理的面内均匀性的电浆处理装置用的载置台，及具备该载置台的电浆处理装置。;解决问题;电浆处理装置2用的载置台3是具备：兼具电浆生成用等的下部电极31的导电体构件，及设置成覆该导电体构件的上面部，经由被处理基板(晶圆W)而将施加于电浆的高频电场作成均匀所用的介质层32，及被积层在该介质层32上，埋设有静电吸盘用的电极膜35的电极膜35。在此，电极膜35是满足δ/z≧1,000(z：电极膜35的厚度，δ：对于从高频电源61a所供应的高频电力的电极膜35的透入深度)的条件。 |
