发明名称 Die, Wafer und Verfahren zur Verarbeitung eines Wafers
摘要 Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Die eine metallisierte Fläche, die benachbart zu einer Kante des Dies angeordnet ist, eine elektrische Verbindung, die mit der metallisierten Fläche kontaktiert ist und von der metallisierten Fläche zu der Kante verläuft, wobei die elektrische Verbindung metallfrei ist, beinhalten. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Wafer einen Die-Bereich, der eine metallisierte Fläche beinhaltet, einen Kerbbereich, der ein elektrisches oder elektronisches Bauteil beinhaltet, und eine elektrische Verbindung, die das elektrische oder elektronische Bauteil mit dem metallisierten Bereich verbindet, wobei die elektrische Verbindung metallfrei ist, beinhalten.
申请公布号 DE102013004410(A1) 申请公布日期 2013.09.19
申请号 DE20131004410 申请日期 2013.03.15
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 BONART, DIETRICH
分类号 H01L23/544;H01L21/66 主分类号 H01L23/544
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利