| 发明名称 | 用于制造电容式测量装置的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于制造测量装置(1)的方法，该测量装置用于电容式地确定和/或监测介质(10)的料位，其中，测量装置(1)具有探头单元(2)和电子单元(3)，其中，电子单元(3)在测量时向探头单元(2)施加激励信号并接收来自探头单元(2)的接收信号，电子单元(3)从该接收信号中测定电容值。本发明包括：利用绝缘层(6)来给探头单元(2)涂层，将经涂层的探头单元(2)与电子单元(3)连接并安置到带有标定介质的容器(11)中，经涂层的探头单元(2)完全由标定介质覆盖并获取所属的接收信号，以及利用所属的接收信号来调整电子单元(3)的可调部件。 | ||
| 申请公布号 | CN102165289B | 申请公布日期 | 2013.09.18 |
| 申请号 | CN200980138498.5 | 申请日期 | 2009.08.12 |
| 申请人 | 恩德莱斯和豪瑟尔两合公司 | 发明人 | 福尔克尔·德赖尔;阿尔明·韦内特 |
| 分类号 | G01F23/26(2006.01)I;G01F25/00(2006.01)I | 主分类号 | G01F23/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 邹璐;樊卫民 |
| 主权项 | 用于制造测量装置（1）的方法，所述测量装置（1）用于电容式地确定和/或监测介质（10）的至少料位，其中，所述测量装置（1）具有至少一个探头单元（2），其中，测量装置（1）具有至少一个电子单元（3），其中，在测量时电子单元（3）向所述探头单元（2）施加激励信号并接收来自所述探头单元（2）的接收信号，其中，所述电子单元（3）从所述接收信号中测定至少一个能够与所述介质（1）的料位相对应的电容值，其中，为所述探头单元（2）涂覆绝缘层（6），并且其中，将经涂层的所述探头单元（2）与所述电子单元（3）连接，其特征在于，将经涂层的所述探头单元（2）安置到带有标定介质的容器（11）中，经涂层的所述探头单元（2）基本上完全由所述标定介质覆盖，在基本上完全覆盖的情况下获取所属的接收信号，以及利用所述所属的接收信号来调整所述电子单元（3）的至少一个可调部件，使得所述电子单元（3）的测量范围与所述探头（2）匹配。 | ||
| 地址 | 德国毛尔堡 | ||