发明名称 一种集成功率晶体管的金属布局结构
摘要 本申请公开了一种集成功率晶体管的金属布局结构。所述集成功率晶体管的金属布局结构包括:第一金属层,第二金属层和第三金属层,其中所述第一金属层通过通孔连接至第二金属层;所述第二金属层通过超级通孔连接至第三金属层。本申请公开的集成功率晶体管的金属布局结构减小了金属连接阻抗,提高了系统性能。
申请公布号 CN203205413U 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN201220719696.X 申请日期 2012.12.24
申请人 成都芯源系统有限公司 发明人 徐鹏
分类号 H01L23/528(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I 主分类号 H01L23/528(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种集成功率晶体管的金属布局结构,其特征在于,所述集成功率晶体管的金属布局结构包括: 第一金属层,第二金属层和第三金属层,其中 所述第一金属层通过通孔连接至第二金属层; 所述第二金属层通过超级通孔连接至第三金属层。
地址 611731 四川省成都市高新西区出口加工区(西区)科新路8号